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真空加熱・基板加熱ユニット設計制作

Ptヒーター基板加熱機構(FPV型ヒーターユニット)


ヒーターユニットヒーターユニット

FPT型基板加熱ユニットは、白金ヒーター、インコネルの基板ホルダー、ヒーターハウジング、リフレクター等により構成されており、酸化雰囲気の中で蒸着、スパッター等の方法により薄膜を作成するときに基板を高熱に加熱することができます。
ヒーターの熱効率を上げるために白金の板ヒーター構造としています。
基板ホルダー、側部リフレクターはピンによる引っ掛け式構造により取りはずしが容易です。
ヒートプレートによる間接加熱、あるいは白金ヒーターの直接加熱が可能です。

標準仕様

型式 FPV-60
発熱体 白金板ヒーター
基板寸法 φ60、50角基板
加熱温度 常用 900℃
基板ホルダー 最大 1000℃
真空中(ヒートプレート上にて)
基板ホルダー インコネル600
リフレクター インコネル600
雰囲気 真空、不活性ガス、酸化雰囲気
昇温時間 30分(1000℃)
外形寸法 φ130×60H
熱電対 C-A
真空内リード線 標準長さ300L

※サンプルの材質、ユニット支持方法、雰囲気等により、基板温度は変わります。


ヒーターユニット

ヒーターユニット

真空加熱機構


MOR-100小型真空加熱ユニットは、現在所有している真空装置、例えば、蒸着装置に取り付け、高真空炉として活用できるようにする為の機構です。
  1. 超高真空部品、例えばMBE装置のウェハーホルダー、Kセル部品等のガス出し(1100℃)
  2. SUS等の部品の熱処理(1200℃)
  3. ハイテクろう付け(900℃)
清浄な雰囲気の中での加熱を必要とする場合に利用して下さい。
炉としての目標温度はこれらにより、試料温度最大1200~1500℃程度になります。

特徴

  • ヒーター、リフレクター電極が一体で構成されている為、ユニットを装置の中に据え置くだけで炉体が組み上がります。分解、組み立てが容易です。
  • 大電流不要のヒーター構造です。

標準仕様

型式 MOR-100 円筒型小型炉
有効炉内寸法 φ100×160H
φ60~φ150×100H~200H
炉内温度 1300℃、1500℃
(全モリブデン仕様)
発熱体 モリブデンワイヤーヒーター
リフレクター モリブデン
昇温時間 40分(1300℃炉内にて)
電力容量 単相40V、53A(1300℃定常時)
3KVA(容量)
外形寸法 φ250×390mm
雰囲気 真空、不活性ガス、還元
熱電対 WR5%-WR26%
真空内リード線 標準長さ300L

ヒーターユニット

オプション

  • 加熱ユニット制御電源
    (PID制御、プログラムコントロール)
  • 電流導入端子
  • 熱電対導入端子
  • 内部均熱筒(ろう付け等に最適)

真空基板加熱ユニット


真空基板加熱ユニット真空基板加熱ユニット

特徴

  • CVD・PVD基板加熱実験に最適!
  • シリコンや新素材基板の小片基板の高温加熱実験にお使いいただいています。
  • 省スペースの真空容器内での各種基板を高温に加熱します。
  • 小電流で加熱できますのでほとんどの電源にて昇温できます。

標準仕様

標準仕様 MHB40
発熱体 標準 タンタル(※1)
加熱温度 700℃平均安定温度
加熱範囲 最大40mm角
加熱電流 7~10A程度
使用雰囲気例 真空ベース
ユニットサイズ φ92×H52mm
ユニット材質 ステンレス・チタン(一部)
標準価格 250,000円(消費税別)

付属品

  • 真空内リード線 500L×2本

真空加熱機構の各種パーツ
詳細はこちらをご覧ください (PDF)

オプション(※1)

  • 熱電対 Kセンサー 他
  • ヒーター素材
    タングステン・モリブデン・白金・ニクロムなど選択
  • ユニット材
    チタン・インコネル・ハステロイ
  • 特注対応
    基板サイズ・チャンバースペース等の要望により設計対応します

基板加熱ヒーター(アルミ青銅ヒーター) ACシリーズ


基板加熱ヒーター(アルミ青銅ヒーター) ACシリーズ
低価格で簡単加熱!

特徴

  • シーズヒーターをアルミ青銅に鋳込みました。各種平面資料に対応できるように、平面仕上げをしていますので、いろいろな昇温実験に使うことができます。
  • 真空中に限らず、常温大気中でお使いいただけます。ユニット固定台と資料ホルダーはオプションとなりますが、加熱基材にあわせて設計製作いたします。
  • ヒーター本体の特注も応じますのでメール、FAXにてお気軽にご相談ください。

標準仕様

型式 AC207070
ヒーター本体寸法 18t×70×70
ヒーター重量 約1000g
電気容量 100V 350Wまで
基材加熱範囲 最大 50□
最高使用温度 埋込ヒーター温度600℃
実勢試用温度 約550℃
標準価格 35,000円(消費税別)
ヒーターユニット
真空チャンバーでの基材取付機構例

オプション

  • 熱電対 K型センサー 500L
  • 真空内リード線 500L×2本
  • ユニット固定台、基材資料ホルダー(使用条件に合わせて製作)

カートリッジ式プレートヒーター(HPシリーズ)


カートリッジ式プレートヒーター(HPシリーズ)
真空・大気環境での高温加熱実験に!

標準仕様

型式 HP-H2-30
加熱プレート SUS304 10t-30W-50L
挿入ヒータ RAMAROD 1/4"
ヒータ温度 最大871℃
ヒータ本数 2本
接続リード線 直列・並列選択
基盤加熱エリア 30x30mm
センサー挿入孔 φ2mm
加熱温度 700℃
(加熱プレート熱電対測定位置)
付属品 固定台座:SUS304
標準価格 50,000円(消費税別)

オプション

  • 電源
  • 熱電対
  • リード線
  • 碍子
  • 基板固定部品
  • 真空フランジ

オプション製作

  • ヒータ本数
  • 大きさ
  • 材質(インコネル・モリブデン等)
  • 上記以外の大きさも製作可能です。ご相談ください


カートリッジ式プレートヒーター(HPシリーズ)カートリッジヒータ
カートリッジヒータ
カートリッジ式プレートヒーター(HPシリーズ)ヒータ加熱プレート
ヒータ加熱プレート
カートリッジ式プレートヒーター(HPシリーズ)固定台座
固定台座

真空加熱機構の各種パーツ
詳細はこちらをご覧ください (PDF)

セラミックプレートヒーター ULTRAMIC-TM600


セラミックプレートヒーター ULTRAMIC-600

特徴

  • 超高速昇温で高速ラッピングレートを実現
  • 高純度セラミックで加熱媒体に化学的適合
  • 小型軽量で扱いやすく、高い絶縁耐力
  • UL認定品(400℃まで)の世界的安全規格

仕様

最高仕様温度 600℃
端子温度 400℃
電圧 24~480V
耐絶縁性 15KV/mm
比誘電率8.9  リーク電流<0.1mA
リード線 フッ素樹脂絶縁銀メッキ銅リード線
(標準305mm)
形状 正方形・長方形・リング

特性

セラミック組成 窒化アルミ(AlN)
熱伝導性 140W/mk
密度 3.26g/cm3

セラミックプレートヒーター ULTRAMIC-600

オプション

  • 熱電対オプション
    1. K熱電対にセラミック絶縁接着(最高温度400度まで)
    2. シース熱電対取付け穴加工(最高温度600度まで)
  • 温度コントローラ
  • 大気ー真空 変換フランジ 、コネクタ等 お問合せください。

標準サイズ

正方形:SQUARE

SQ-CER-002
サイズ 25mm×25mm
厚さ 2.5t
ワット数 967W
電圧 240V
SQ-CER-093
サイズ 25mm×25mm
厚さ 2.5t
ワット数 150W
電圧 120V

リング形状:RING

RG-CER02-001
サイズ 外径:38mm
内径:29mm
厚さ 2.5t
ワット数 733W
電圧 120V
RG-CER02-002
サイズ 外径:77.5mm
内径;59mm
厚さ 2.5t
ワット数 770W
電圧 240V

  • SQUARE(正方形)、RECTANGLE(長方形)で数種類のサイズあります
  • お客様の仕様に沿って特注品の製作も可能です(ご相談下さい)。

製作サイズ及びスペック表

構成と寸法
形状 長さ 厚さ 縦横比
正方形 最小:8mm / 最大63.5mm 最小:2mm
最大:5mm
1
長方形 最大100mm 最小8mm 最小:2mm
最大:5mm
<10
形状  内径(I.D) 内径(I.D) 厚さ リング壁
リング 最小:3mm 最大75mm 最小:2mm
最大:5mm
3mm
表面仕上げ 等
平坦度 平行度 表面粗さ 直線溝(特注) 穴径(特注)
<0.05mm <0.05mm <0.8μm 奥行:0.2~0.5mm
幅:0.75~2mm
最小:1mm
最大:3mm
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