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半導体・液晶プロセス装置消耗部品

半導体・液晶プロセス装置消耗部品


プロセス装置/製作パーツ一例

イオン注入装置 ソースヘッドパーツ・カーボン電極
スパッタ・PDV装置 ウエハークランプ・シールド・
CVD・エッチャー装 アルマイト電極・ヒーター・Niボルト
電子銃EBパーツ ハースライナー、電極、フィラメント
CMP装置・洗浄装置 ホリッシュ治具・ウエハ一保持樹脂部品
塗布・現像・露光装置 ハンドアーム・ミラー・露光フィルタ
クリーンルーム内使用製品 静電対策・配管ヒータ・作業台
ビームライン機構部品の修理 分析管・静電チャック
電源ユニット・電子機器の修理 ヒーター・ドライバー・モーター

電子・イオン・プラズマ用 高融点金属グリッドの製作


電子シャワー、プラズマ、イオンシャワー
高温対応グリッドプレート及び湾曲加工

用途・効果

真空機構を伴う、CVD やプラズマ、イオン、電子発生装置等のプ ラズマ発生源均衡機構における、イオンシャワーなどの方向均等性向上
装置例:ドライエッチング装置、イオンミーリング装置等、蒸着アシスト機構
また、各種実験研究や製品開発に伴う環境流域の均等性向上、流速の均一化

グリット素材

高温対応

  • モリブデン(Mo99.95%)
  • タングステン(W99.9%)
  • タンタル(Ta99.85%)
  • カーボン

低音対応

  • アルミアルマイト(各種アルミ、アルマイト種、膜厚をご指定ください)
  • 単結晶シリコン
  • 純銀(Ag)
  • チタン(Ti)
  • ステンレス各種
  • 特殊樹脂(ポリイミド、テフロン)
  • 石英ガラス


その他、特殊形状や新素材などの加工についてもご相談ください。
ビットテックはお客様の研究開発から TQC、創造活動に貢献いたします。

純銀製 エレクトロバスバーの製作

抜群の導電率で電気電子回路の安定に!
耐久、耐食にも強い。

用途・効果

主に真空環境で耐久、耐食を要する機器の電流の導電体バスバー(ブスバー・ストラップ)に使われています。希少金属のAgを用いることで品質の安定や消耗頻度を抑えることでTQC効果として、銅やめっき金属の代替えとして高価な装置や特殊使用環境機器での採用が増えています。
主な用途装置:イオン注入装置

主要素材

純銀(Ag)99.9%up

主要素材

  • 無酸素銅、リン青銅、アルミ(各種アルミ、アルマイト)
  • 純ニッケル、ニッケル合金、ステンレス各種
  • 各種表面処理 その他、特殊形状や新素材などの加工についてもご相談ください。
    ビットテックはお客様の研究開発からTQC、創造活動に貢献いたします。
真空加熱・基板加熱ユニット設計制作
真空蒸着機用消耗部品
特殊金属/特殊樹脂ボルト・ナット・ワッシャー
CF型フランジ用ガスケット
水素燃料電池セル・セパレーター加工
半導体・液晶プロセス装置消耗部品
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